Análisis químico de muestra sólida por espectrometría de plasma de acoplamiento inductivo: Aplicación a los materiales electrocerámicos

La espectrometría de plasma de acoplamiento inductivo (ICP) es una excelente técnica para la determinación de impurezas y dopantes en materiales electrocerámicos. Sin embargo, presenta el gran inconveniente de que exige disponer de las muestras en solución. Los procedimientos de disolución de los materiales cerámicos pueden originar numerosos problemas como pérdidas de elementos volátiles, contaminaciones, aumento de la duración de los análisis, dilución del analito, etc. La necesidad de evitar esta problemática ha originado un creciente interés en el desarrollo de nuevas técnicas de introducción directa de muestra sólida en el seno del plasma. En la actualidad existen dos grandes métodos que están siendo investigados para el análisis químico directo de materiales cerámicos. El primero consiste en la introducción de partículas dentro del ICP en forma de aerosol generado por nebulización de una suspensión. En el segundo se vaporiza la muestra sólida directamente dentro del plasma sometiéndola a la acción de un rayo láser. En el presente trabajo se muestran las posibilidades que ofrecen ambas técnicas —introducción de suspensiones y ablación por láser— en el análisis químico de muestra sólida de materiales electrocer ámicos.

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