Resistencia a la ablación de grafito recubierto por compuestos basados en ZrB2-SiC sinterizados por plasma de chispa

El recubrimiento ZrB2-SiC-HfB2-WC aplicado mediante sinterización por plasma de chispa condujo a la mejora de la resistencia a la ablación del sustrato de grafito. Se investigó la influencia de la relación HfB2/WC en la resistencia a la ablación producida por una llama. Las evoluciones microestructurales y la caracterización de fase se estudiaron mediante microscopía electrónica de barrido y difracción de rayos X, respectivamente. Se confirma que la resistencia a la ablación de la muestra con el 5% de WC y el 2,5% de HfB2 se incrementó significativamente con materiales de ablación mínimos y una tasa del 1,1% y 2,2mgs−1 empleando los resultados de la prueba de llama de oxiacetileno. Los mecanismos importantes de mejora de la resistencia a la ablación fueron la evaporación de WO3 y SiO tras la oxidación de SiC y WC en el recubrimiento.
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