El presente trabajo estudia la viabilidad de un método para enriquecer en Si chapas de Fe-3%Si convencionales, depositando Si en su superficie mediante PVD y sometiéndolas a un tratamiento térmico de difusión. Se trata de obtener chapas magnéticas con un contenido en Si de un 6,5% en peso, ya que éstas presentan mayor resistividad y magnetoestricción nula, reduciendo las pérdidas y solucionando los problemas de ruido a altas frecuencias. Las capas depositadas por PVD, de espesores ~5 μm, presentan buena adherencia al substrato. En cuanto al tratamiento térmico, se observa que hay una velocidad de calentamiento crítica entre 5 y 15°/min, por encima de la cual la película se despega sin llegarse a formar intermetálicos en la intercara. A 3°/min se dan las condiciones para la formación de intermetálicos. Calentando directamente hasta temperaturas de unos 800°C se obtiene una capa superficial de Fe3Si(α1) que, aun siendo frágil, no se despega durante el tratamiento. Un calentamiento posterior hasta temperaturas del orden de 1200°C permite la homogeneización de la composición de la chapa. Existe evidencia de efecto Kirkendall en el par de difusión Fe3Siα1)/Fe(α), debido a que la difusión de Fe en Fe3Si(α1) es mayor que la de Si en Fe(α).
Relación estructura-propiedades y estudios espectroscópicos de vidrios de óxido BaO-B2O3 que contienen ZnO para aplicaciones ópticas
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